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    磁控濺射鍍膜機(jī)Sputter
    
            
    
            	
    簡(jiǎn)要描述：v應(yīng)用領(lǐng)域：巨磁電阻（GMR）、組合材料科學(xué)（CMS）、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、納米級(jí)器件、光子學(xué)、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機(jī)薄膜v樣品尺寸：8英寸v濺射源：強(qiáng)磁靶、永磁靶
    
            
    
            
    
              基礎(chǔ)信息
            	
    
                	
    產(chǎn)品型號(hào)
    
                    
    廠商性質(zhì)
    代理商
    
                    
    更新時(shí)間
    2024-10-22
    
                    
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    詳細(xì)介紹
    
      
    

                
    
                	
                    
    
                        
                            
                        
                    
    
                
    
      
    
         
    v 應(yīng)用領(lǐng)域：巨磁電阻（GMR）、組合材料科學(xué)（CMS）、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、納米級(jí)器件、光子學(xué)、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機(jī)薄膜
    v 樣品尺寸：8英寸
    v 濺射源：強(qiáng)磁靶、永磁靶，數(shù)量根據(jù)用戶定制
    v 電源：直流電源、射頻電壓
    v 真空系統(tǒng)：超高真空
    v 樣品臺(tái)加熱：至1100℃
    v 控制系統(tǒng)：全自動(dòng)控制
    v 進(jìn)樣室：根據(jù)用戶需求定制

    
      
    
      
    
      
      
     
      
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